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佐々木樹君(D2)の塗布法で作製し真空UV照射により緻密化され高いガスバリア性能を有するSiNナノ薄膜に関する研究論文(査読付き)がACS Applied Nano Materialsにアクセプトされました。更なる研究進展が期待されています。
“Nanometer-Thick SiN Films as Gas Barrier Coatings Densified by Vacuum UV Irradiation” T.Sasaki, L.Sun, Y.Kurosawa, T.Takahashi, Y.Suzuri, ACS Applied Nano Materials, accepted for publication